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青岛赛瑞达设备制造有限公司
太阳能电池片扩散炉,PECVD,LPCVD,砷化镓单晶生长炉系列,LED系列,清洗机,工业炉
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太阳能电池片专用扩散炉
太阳能电池专用扩散炉主要技术数据 ◆工作温度: 300~1300℃ ◆有效口径 根据用户扩散片确定,可订制 ◆恒温区长度: 1080mm(
2009-04-08
PECVD
设备主要特点 ◆用工业微机对工艺时间,温度,气体流量,阀门动作,反应室压力实现全自动控制. ◆采用进口压力控制系统,闭环系统,稳
2009-04-08
硅片清洗机
硅片清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂
2009-04-08
多晶硅生长炉
◆ 硅烷法多晶硅生长设备主要用于电子级多晶硅的生成,其主要是利用硅烷热分解法生产纯度较高的电子级多晶硅产品。 ◆
2009-04-08
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