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深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司

硅片超声波清洗设备等离子蚀刻设备, 制绒设备, 湿蚀刻设备, ...

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槽式SE刻蚀设备
设备用途：对电池片进行选择性刻蚀、清洗 工艺流程：上料去PSG纯水漂洗酸处理纯水清洗纯水隔离碱洗超声清洗纯水隔离SC-2处理纯水 		2013-12-15
链式SE刻蚀设备
设备用途：对电池片进行选择性刻蚀、清洗 工艺流程：上料滴水保护背刻纯水喷淋1正刻纯水喷淋2粗碱洗纯水喷淋3精碱洗纯水喷淋4酸 		2013-12-15
链式湿法刻蚀设备
设备用途：主要对单、多晶硅片进行刻蚀、清洗、干燥 工艺流程：上料酸气隔离滴水保护刻蚀纯水喷淋1碱洗纯水喷淋2酸洗纯水喷淋3烘 		2013-12-15
DS-300型管式高温扩散炉
设备用途：主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片的掺杂形成PN结 工艺流程：石英舟及硅片准备插片上料选择工艺运行进舟升温稳定通 		2013-12-15
单、多晶链式制绒设备
设备型号：SCCSZ2400D15D 设备用途：主要对单晶硅太阳能硅片进行绒面腐蚀和清洗处理 工艺流程：上料去损伤层温水隔离单晶绒面单 		2013-12-15
全自动单晶制绒酸洗综合设备
设备型号：SCCSZ2400D15D 设备用途：主要对单晶硅太阳能硅片进行绒面腐蚀和清洗处理 工艺流程：上料去损伤层温水隔离单晶绒面单 		2013-12-15
二次印刷机
设备型号：JMYS-II 设备用途：本设备主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片栅线的二次印刷 技术特点： ●精确图形对位功能，实现 		2013-12-15
掩膜图形对位印刷机
设备名称：掩模图形对位印刷机 设备型号：JMYS-I 设备用途：本设备主要用于SE晶体硅太阳能电池制造中掩膜材料剥离后电极栅线的对 		2013-12-15
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