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深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司

硅片超声波清洗设备等离子蚀刻设备, 制绒设备, 湿蚀刻设备, ...

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LED专用ZnO—MOCVD
设备型号：MD-600A 设备用途：LED芯片制造工序之氧化物透明电极生长 工艺流程：LED wafer装载并送入反应炉wafer退火处理接触层生 		2013-12-15
LED专用合金炉
设备型号：MC-200 设备用途：主要用于LED芯片制造工序之外延片退火、TCL退火金属电极合金等 工艺流程：升温通氮气稳定温度石英舟 		2013-12-15
全自动硅料清洗设备
设备用途：本设备主要对硅料/块进行清洗 工艺流程：上料强酸腐蚀快排漂洗快排漂洗纯水锁纯水漂洗切水真空烘干下料 技术特点： ● 		2013-12-15
化学品供应系统
设备用途：本设备用于向电池片设备及硅料设备输送化学品药液 技术特点： ●适用于多种不同比重的酸、碱化学品药液的输送。 ●设 		2013-12-15
全自动超声波硅片清洗设备
设备用途：本设备主要用于对切片后的太阳能硅片进行清洗、烘干处理 工艺流程：上料超声波水洗超声波水洗超声波碱洗超声波碱洗超 		2013-12-15
PD-305/380型管式PECVD
设备用途：主要用于晶体硅太阳能电池制造中电池片的减反射膜生长，也可用于在电池片的背面沉积钝化膜。 工艺流程：石墨舟及硅片 		2013-12-15
全自动去磷硅玻璃（PSG）清洗设备
设备用途：主要用于太阳能电池生产中硅片扩散后表面磷硅玻璃的去除 工艺流程：上料HF处理纯水清洗纯水清洗喷淋漂洗下料 技术特点 		2013-12-15
等离子体刻蚀机
设备用途：主要用于晶体硅太阳能电池片周边的刻蚀 技术特点： ●有效的真空检测装置安装方法，保证真空准确性，同时可延长其清理 		2013-12-15
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